V10-G это настольная система плазменной очистки, специально разработанная для удаления фоторезиста и идеально подходящая для очистки полупроводниковых подложек и пластин, разработанная для Научно-исследовательских лабораторий и мелкосерийного производства.
Отличительные особенности:
• Кварцевая камера.
• Сдвижная дверь.
• PLC-контролер SPS (S7-300).
• Резистивный сенсорный экран операционной системой Windows.
• Автоматический и ручной режимы.
• Отображение важных параметров всех процессов.
• Гибкие настройки доступа управления установкой.
• Архивация всех процессов.
• Возможность удалённого контроля.
• Ethernet–интерфейс.
Области применения:
• Обработка полупроводниковых и других пластин и подложек перед процессом жидкостной химической обработки для улучшения смачиваемости поверхности и получения лучших и более однородных результатов.
• Изготовление МЭМС и изделий сверхмалого размера.
• Удаление полимеров (например, после Bosch-процессов).
• Удаление жертвенных органических слоёв.
• Обработка биоактивных компаундов.
• Идеально подходит для удаления фоторезиста после сухих процессов (например, реактивного ионного травления или электронно-лучевого травления).
Опции:
• Вакуумная помпа.
• Озоновая ловушка.
• Вторая газовая линия.
• Вращающийся барабан для мелких компонентов.
• Ящик с полками.
• Дистанционное управление и т.д..
Технические характеристики:
Размеры рабочей камеры: Ø215 мм, глубина: 260 мм.
Частота генератора: 2,45 ГГц, 50 — 600 Вт.
Подача газа: Одна газовая магистраль с массовым расходомером с магнитным клапаном.
Электропитание: 380 В, 50 Гц, 1,5 кВт.
Габаритные размеры: 720х820х820 мм.
Вес: 150 кг.