Главная/ Оборудование/ Оборудование для производства микроэлектроники/ Плазменная очистка/ Настольная установка плазменной очистки CRF-VPO 35L
Оборудование для производства микроэлектроники · Плазменная очистка

Настольная установка плазменной очистки CRF-VPO 35L

Настольная универсальная установка плазменной очистки пластин, подложек и корпусов с камерой 35 л и ВЧ-генератором 13,56 МГц.

  • Настольное исполнение, камера 35 л со смотровым окном
  • ВЧ-генератор 13,56 МГц, мощность 0–600 Вт
  • Управление: PLC-контроллер и сенсорный экран
  • Две газовые линии с MFC, ещё две — опционально
  • Сухой вакуумный насос, две полки для образцов

Настольная универсальная установка плазменной очистки пластин, подложек и корпусов. Помимо очистки, установка может применяться для изотропного плазменного травления.

В качестве рабочих газов используются азот, аргон, кислород, смеси газов и CF4. Управление осуществляется с помощью PLC-контроллера и сенсорного экрана; камера оснащена смотровым окном, а внутри размещаются две полки для образцов размером до 150×150 мм.

Тип размещениянастольный
УправлениеPLC-контроллер + сенсорный экран
ВЧ-генератор13,56 МГц
Мощность ВЧ0–600 Вт
Объём камеры35 л
Смотровое окноналичие
Газовые линии2 шт. с MFC + 2 дополнительные опционально
Максимальный размер образца/пластины150×150 мм
Рабочие газыазот, аргон, кислород, смеси газов, CF4
Вакуумная системасухой насос
Размещение образцов/пластин2 полки
Электропитание220 В, одна фаза, 0,6 кВт
Габаритные размеры554×1100×950 мм
Вес~90 кг

Хотите рассчитать стоимость с доставкой?

Пришлём коммерческое предложение с ценой и сроком поставки.

Контакты

Свяжитесь с нами

Адрес

305010, г. Курск, ул. Чапаева, д. 22А

Телефон

+7 (499) 653-80-83

Режим работы

Пн–Пт: 9:00–18:00

Оставить заявку

Ответим на вопросы по подбору и наличию оборудования в течение рабочего дня.